Low temperature in situ formation of cobalt in silicon nitride toward functional nitride nanocomposites † - CNRS - Centre national de la recherche scientifique Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Chemical Communications Année : 2021

Low temperature in situ formation of cobalt in silicon nitride toward functional nitride nanocomposites †

Shotaro Tada
  • Fonction : Auteur
Maira Debarba Mallmann
  • Fonction : Auteur
Haruna Takagi
  • Fonction : Auteur
Junya Iihama
  • Fonction : Auteur
Norifumi Asakuma
  • Fonction : Auteur
Toru Asaka
  • Fonction : Auteur
Yusuke Daiko
  • Fonction : Auteur
Sawao Honda
Rafael Kenji Nishihora
Yuji Iwamoto

Résumé

This work highlights the first demonstration of a low-temperature in situ formation of Co nanocrystallites embedded within an amorphous silicon nitride matrix through careful control of the chemistry behind material design using perhydropolysilazane (PHPS) as a Si3N4 precursor further coordinated with CoCl2 and ammonia as a pyrolysis atmosphere. The Co nucleation was allowed to proceed at temperatures as low as 400 8C via thermal decomposition of Co2N pre-formed in situ by the reaction of CoCl2 with the Si centers of PHPS at the early stage of pyrolysis (220-350 8C).

Domaines

Chimie
Fichier principal
Vignette du fichier
ChemCommunSBernardversionHal.pdf (512.2 Ko) Télécharger le fichier
Origine : Fichiers produits par l'(les) auteur(s)

Dates et versions

hal-03157706 , version 1 (03-03-2021)

Identifiants

Citer

Shotaro Tada, Maira Debarba Mallmann, Haruna Takagi, Junya Iihama, Norifumi Asakuma, et al.. Low temperature in situ formation of cobalt in silicon nitride toward functional nitride nanocomposites †. Chemical Communications, 2021, 57 (16), pp.2057-2060. ⟨10.1039/d0cc07366k⟩. ⟨hal-03157706⟩
29 Consultations
225 Téléchargements

Altmetric

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More